• Rezultati Niso Bili Najdeni

NOTRANJA OKSIDACIJA ZLITIN SREBRA Z @VEPLOMINTERNAL OXIDATION OF SILVER - SULPHUR ALLOYS

N/A
N/A
Protected

Academic year: 2022

Share "NOTRANJA OKSIDACIJA ZLITIN SREBRA Z @VEPLOMINTERNAL OXIDATION OF SILVER - SULPHUR ALLOYS"

Copied!
3
0
0

Celotno besedilo

(1)

ISSN 1318-0010 KZLTET 32(5)323(1998)

S. Horvat Kova~i~: Notranja oksidacija zlitin srebra z ‘veplom

NOTRANJA OKSIDACIJA ZLITIN SREBRA Z @VEPLOM

INTERNAL OXIDATION OF SILVER - SULPHUR ALLOYS

S. HORVAT KOVA^I^

NTF, Oddelek za materiale in metalurgijo, A{ker~eva 12, 1000 Ljubljana

Prejem rokopisa - received: 1997-10-01; sprejem za objavo - accepted for publication: 1997-12-19

Pri visokih temperaturah na zraku ali v kisiku reagirajo zlitine srebra z ‘veplom po mehanizmu notranje oksidacije. Ker je topnost ‘vepla v trdnem srebru zelo majhna, so te zlitine dvofazne. Posebnost pri oksidaciji teh zlitin je nastanek plinastih produktov. Analizirali smo kinetiko oksidacije teh zlitin, dolo~ili aktivacijsko energijo in mehanizem notranje oksidacije zlitin.

Klju~ne besede: notranja oksidacija, srebro, ‘veplo

In silver - sulphur alloys, when exposed in air or pure oxygen at high temperature, the internal oxidation occurs. Because of the low solubility of sulphur in silver two phases are present. The products of internal oxidation of these alloys are gaseous. The kinetics of oxidation at high temperature and activation energy of this process were determined and also mechanism of internal oxidation was analiesed.

Key words: internal oxidation, silver, sulphur

1 UVOD

Notranja oksidacija je poseben primer visokotem- peraturne reakcije med trdno zlitino in atmosfero, pri kateri oksidira manj ‘lahtna sestavina zlitine. Pri nekaterih zlitnah se notranja oksidacija pojavi skupaj s povr{insko.

Da pride do notranje oksidacije, morajo biti izpolnjeni nekateri pogoji. Prvi je ta, da morajo imeti le- girni elementi ve~jo afiniteto do kisika kot osnovna kovina, drugi, da mora osnovna kovina topiti ~im ve~

kisika, in tretji, da je hitrost difuzije kisika v osnovni kovini mnogo ve~ja kot hitrost difuzije legirnega ele- menta.

Pojav notranje oksidacije smo opazovali v zlitinah srebra z ‘veplom, ki izpolnjujejo zgoraj na{tete pogoje.

Srebrov oksid pri temperaturah oksidacije ni termodi- nami~no stabilen, medtem ko se ‘veplo pri teh tempera- turah zlahka oksidira. Po termodinami~nih izra~unih je najbolj stabilen produkt oksidacije plinasti SO3. Topnost kisika v srebru pri temperaturah oksidacije je med 2,9 x 10-3 in 4,9 x 10-3 m.%, njegova difuzija je mnogo hitrej{a od difuzije ‘vepla.

2 EKSPERIMENTALNO DELO

Za poskus smo izbrali zlitino z 0,5 m.% ‘vepla.

Zlitino smo pripravili s taljenjem v zaprti kremenovi am- puli, v kateri smo ustvarili tlak pribli‘no 102 Pa. Vzorce smo potem ‘arili pri temperaturah 600, 750, 775 in 800°C v kisikovi atmosferi razli~no dolgo. Produkte ok- sidacije smo vodili v raztopino vodikovega peroksida in jo nato titrirali z raztopino natrijevega tetraborata, da bi ugotovili, ali se med oksidacijo izlo~a ‘veplo. Na vzor- cih smo merili kinetiko, mikrostrukturne in kemi~ne

spremembe ter raziskali oziroma predlo‘ili shemo me- hanizma oksidacije.

3 REZULTATI

Mikrostrukturo zlitine pred oksidacijo sestavljajo α- zmesni kristali srebra in kongruentno tvorjena inter- metalna faza Ag2S v tipu lo~enega evtektika.

V mikrostrukturi vzorcev po oksidaciji (slika 1) smo opazili cono notranje oksidacije (CNO), ki zvezno pre- haja v neoksidirano podro~je. V CNO so razporejene pore razli~nih oblik in velikosti. Pri kvantitativni analizi mikrostrukture (tabela 1) smo ugotovili, da je povpre~na velikost por mnogo ve~ja od povpre~ne velikosti sulfid- nih delcev, njihovo {tevilo pa je manj{e. Pore zavzemajo ve~ji dele‘ celotne povr{ine kot sulfidni delci.

Tabela 1: Kvantitativna analiza mikrostrukture Table 1: Quantitative analysis of microstructure

osnova 800°C 4h

800°C 9h

800°C 16h

S S P S P P

N 465 251 144 213 128 112

A 72,87 146,6 389,19 149,74 454,73 525,26

9 4 3

L 50,48 64,61 70,01 76,55 73,18 77,58

E 1,73 1,38 1,92 1,42 1,93 1,98

X 3,39 3,67 5,61 3,19 5,82 5,88

S - sulfidni delci, P - pore, N - {tevilo delcev/mm2, A - povpre~na velikost delcev, E - razmerje med najkraj{o in najdalj{o osjo, L - povpre~na razdalja med delci, X - razmerje med povr{ino delcev in celotno povr{ino (%)

Na povr{ini vzorcev so odprte pore, kar je posledica oksidacije sulfidnih delcev, ki so na povr{ini vzorca, in oksidacija ‘vepla, ki pridifundira na povr{ino. V obeh

KOVINE, ZLITINE, TEHNOLOGIJE 32 (1998) 5 323

(2)

primerih se produkti oksidacije izlo~ijo v atmosfero (slika 2). Zato sprememba mase v tem primeru ni natan~no merilo kinetike procesa. Kinetiko oksidacije smo spremljali s hitrostjo pomika ~ela CNO. Rezultati so prikazani na sliki 3. V vseh primerih sledi globina oksi- dacije ena~bi: x = k√t. ^rtkane ~rte na slikah so po Wag- nerjevem modelu, ki velja za oksidacijo enofaznih trdnih raztopin1, izra~unane globine oksidacije (ξ). Pri ra~unu smo enkrat privzeli, da nastaja med oksidacijo SO2 in drugi~ SO3. Eksperimentalno dobljene vrednosti so med

obema izra~unanima, vendar so bli‘je vrednostim, ki upo{tevajo nastanek SO3. Iz naklonov premic pri razli~nih temperaturah smo izra~unali aktivacijsko ener- gijo procesa, ki je 46,1 kJ. To je tudi aktivacijska ener- gija za volumsko difuzijo kisika. Difuzija kisika skozi srebrovo matico je torej tisti dejavnik, ki uravnava hitrost celotnega procesa.

Ker je {tevilo por v CNO manj{e, kot {tevilo sulfid- nih delcev, sklepamo, da ne gre za direktno oksidacijo teh delcev, ampak za njihovo raztapljanje in oksidacijo

‘vepla iz trdne raztopine. Proces se za~ne z absorpcijo kisika in njegovim raztapljanjem v srebru. Hkrati z di- fuzijo kisika navznoter poteka difuzija ‘vepla navzven, kjer se v stiku z atmosfero oksidira. Osiroma{enje

Slika 3: Globina notranje oksidacije v odvisnosti od ~asa oksidacije pri razli~nih temperaturah Figure 3: Depth of internal oxidation as a function of oxidation time for various temperatures

Slika 2: Masa izlo~enega ‘vepla med oksidacijo Figure 2: Mass of eliminated sulphur during oxidation Slika 1: Delno notranje oksidirani vzorec pri 873 K, 9 ur; levo cona

notranje oksidacije, desno neoksidirano podro~je; pove~ava 100-krat Figure 1: Partially internal oxidized specimen at 873 K, 9 hour; on the left side there is internaly oxidized zone, on the right side there is unoxidized zone; 100x

S. Horvat Kova~i~: Notranja oksidacija zlitin srebra z ‘veplom

324 KOVINE, ZLITINE, TEHNOLOGIJE 32 (1998) 5

(3)

povr{ine z ‘veplom se ustavi, ko je pod povr{ino dovolj velika koli~ina kisika, da ve‘e ‘veplo in blokira njegovo pot na povr{ino. Z difuzijo kisika se pove~uje topnostni produkt oksida. Ko ta naraste na kriti~no vrednost, se ok- sid izlo~i. Prve pore nastanejo s koagulacijo substitucij- skih praznin, ki jih je za sabo zapustilo ‘veplo po oksi- daciji. Nastali plinski produkti imajo mnogo ve~ji volumen kot ‘veplo, ki se je oksidiralo. Zaradi tega je v nastali plinski pori velik tlak, ki povzro~a napetosti v matici okoli pore. Te napetosti lahko prese‘ejo napetost te~enja, ki je pri srebru majhna, in deformirajo okolico pore. Plinske pore se zato pove~ajo, tlak v njih pa se zmanj{a. Ko se v matici pojavijo prve pore, poteka oksi- dacija ‘vepla tudi v njih. Energetsko je tak proces bolj ugoden kot tvorba povsem nove pore, ki zahteva energijo za premagovanje deformacijskega odpora, povr{inske energije nove meje in zunanjega tlaka. Proces oksidacije poteka na meji med poro in matico, kamor difundirata kisik in ‘veplo. Na delu, ki je obrnjen proti sredini vzorca, ‘veplo reagira s plinastim SO3 iz pore in tvori SO2. Ta difundira skozi poro na njeno nasprotno stran, kjer s kisikom reagira nazaj v SO3. Ko na strani, ki je obrnjena navznoter, zmanjka ‘vepla, preneha reakcija za nastanek SO2. Zato ostaja kisik v prebitku in difundira globje v notranjost, dokler spet topnostni produkt ne dose‘e kriti~ne vrednosti in nastane nova pora. Proces se ponavlja, dokler ni oksidirano vso ‘veplo. Hkrati poteka

tudi neposredna oksidacija ‘vepla iz intermetalne faze Ag2S, saj mikrostruktura (slika 1) ka‘e na koagulacijo faze Ag2S ter v CNO-nastanek in koagulacijo por na teh mestih.

4 SKLEP

Za raziskavo notranje oksidacije smo izbrali zlitino srebra z 0,5 m.% ‘vepla. Zlitina ustreza pogojem za notranjo oksidacijo. Ugotovili smo, da hitrost notranje oksidacije sledi paraboli~nemu zakonu x = k√t. Plinski produkti oksidacije povzro~ajo plasti~no deformacijo kovinske matice. Zaradi tega in zaradi oksidacije ‘vepla v raztopini so pore mnogo ve~je kot delci intermetalne faze in se zato pove~a tudi volumen zlitine. Aktivacijska energija procesa je enaka tisti za volumsko difuzijo kisika. Zlitina se oksidira po mehanizmu oksidacije trdne raztopine in z neposredno oksidacijo delcev intermetalne faze.

5 LITERATURA

1C. Wagner, Z. Elektroch., 63 (1959) 772-782

2W. Eichenauer, G. Muller, Z. Metallkde., 53 (1962) 5, 321-324

3G. Böhm, M. Kahlweit, Acta Metall., 12 (1964) 641-648

4L. Kosec: Doktorska disertacija, Ljubljana, 1971

5J. L. Meijering: Advances in Materials Research, 5 (1971) 1-82 S. Horvat Kova~i~: Notranja oksidacija zlitin srebra z ‘veplom

KOVINE, ZLITINE, TEHNOLOGIJE 32 (1998) 5 325

Reference

POVEZANI DOKUMENTI

1 H NMR spectroscopy and multiple linear regression analysis were used to determine diesel fuel oxidation stability1. Oxidation stability is one of the most important properties

Figure 4: Effect of carbonization temperature on oxidation resistance of woodceramics (Weight ratio of wood to PF was 40:60; Heating rate of TG was 10 °C/min; Carbonization

We conclude from the comparison of our results from Figures 1 to 4 that the ion bombardment provides a more efficient oxidation process for molybdenum than the thermal oxidation,

Figure 3: Microstructures of the stir zones of friction-stir spot welds for: a) 1.9 mm plunge depth and b) 2.2 mm plunge depth at a tool rota- tional speed of 1000 min –1 and dwell

The main aim of this research is to develop new creep- and oxidation-resistant materials (ODS) (new ODS Fe-Al based alloys and ODS composites) applicable at high temperatures of up

Figure 3: Variation of the specific wear rate with the applied load at different sliding speeds.. Slika 3: Spreminjanje specifi~ne hitrosti obrabe od uporabljene ob- te`be pri

After the oxidation for 3 h at 1000 °C, a continuous glassy film is formed on the surface of sample CB4-12, containing silicon, oxygen, carbon and boron (Figure 5f), consistent with

Therefore, since the thickness of the oxide layer depends on the oxidation rate and the oxidation rate is directly correlated with the temperature, the oxidation time and the